Эллипсометрический способ оценки неоднородности толщины тонкопленочных покрытий
Abstract
The ellipsometric method of depth inhomogeneity evaluation of thin films coatings in depth range from 5 to 150 mn is proposed.
About the Authors
А. Батурин
Московский физико-технический институт
Russian Federation
Russian Federation
В. Бормашов
Московский физико-технический институт
Russian Federation
Russian Federation
В. Гавриленко
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Russian Federation
Russian Federation
А. Заблоцкий
Московский физико-технический институт
Russian Federation
Russian Federation
С. Зайцев
Московский физико-технический институт
Russian Federation
Russian Federation
А. Кузин
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Russian Federation
Russian Federation
П. Тодуа
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Russian Federation
Russian Federation
М. Филиппов
Институт общей и неорганической химии им. Н.С.Курнакова РАН
Russian Federation
Russian Federation
References
1. Красников Г. Я. Конструктивно-технологические особенности субмикронных МОП-транзисторов. М.:Техносфера, 2011.
2. Morton D. E., Johs B., Hale J. Optical monitoring of thin films using spectroscopic ellipsometry. / Proc. 45th Tech. Conf.: Soc. Vac. Coaters. P. 299–305.
3. Woollam J. A. e. a. Overview of variable angle spectroscopic ellipsometry (VASE), part I: basic theory and typical applications //Optical Metrology. 1999. V. CR72. P. 3–75.
4. Азам Р., Башара Н. Эллипсометрия и поляризованный свет. М.: Мир, 1981.
5. Горшков М. М. Эллипсометрия. М.: Сов. радио, 1974.
Review
For citations:
, , , , , , , . Izmeritel`naya Tekhnika. 2013;(11):17-22. (In Russ.)
Views:
60
Email this article 