|Generate QR code
Open Access
Subscription Access
Измерение неоднородности толщины наноплёнок электронно-зондовым методом
Abstract
Electron probe measuring method the inhomogeneity of the thickness of the nanofilms, based on the dependence of the ratio of intensities of characteristic x-rays of the elements included in the film from its thickness is proposed. Calibration dependence is created by calculations on the basis of simulation of interaction of electrons with the sample by the Monte Carlo method.
About the Authors
С. Дарзнек
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Russian Federation
Russian Federation
А. Кузин
Всероссийский научно-исследовательский институт метрологической службы
Russian Federation
Russian Federation
В. Митюхляев
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Russian Federation
Russian Federation
М. Степович
Калужский государственный университет им. К. Э. Циолковского
Russian Federation
Russian Federation
П. Тодуа
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Russian Federation
Russian Federation
М. Филиппов
Москва, Россия
Russian Federation
Russian Federation
References
1. Johnson R. W., Hultqvist A., Bent S. F. A brief review of atomic layer deposition: from fundamentals to applications // Materials Today. 2014. V. 17. №. 5. P. 236-246.
2. Гавриленко В. П., Кузин А. Ю., Митюхляев В. Б., Степович М. А., Тодуа П. А., Филиппов М. Н. Измерение толщины окисной плёнки на поверхности кремния электронно-зондовым методом // Измерительная техника. 2015. № 9. С. 13-16.
3. Kanaya К., Okayama S. Penetration and energy-loss theory of electrons in solid targets // J. Phys. D: Appl. Phys. 1972. V. 5. P. 43-58.
4. Zschornack G. H. Handbook of X-ray Data. London: Springer Science & Business Media, 2007.
5. Procop M., Radtke M., Krumrey M., Hasche K. Electron probe microanalysis (EPMA) measurement of thin-film thickness in the nanometre range // Analytical and bioanalytical chemistry. 2002. V. 374. № 4. P. 631-634.
6. Campos C. S., Vasconcellos M.A.Z., Llovet X., Salvat F. Thickness determination of ultra-thin films on Si substrates by EPMA // Microchimica Acta. 2004. V. 145. № 1-4. P. 13-17.
7. Joy D.C. Monte Carlo Modeling for Electron Microscopy and Microanalysis. Oxford: University Press, 1995.
8. Joy D. C., Luo S. An empirical stopping power relationship for low-energy electrons // Scanning. 1989. V. 11. № 4. P. 176-180.
9. Merlet C. Maximum of the X-Ray Depth Distribution in EPMA at Normal Incidence: an Analytical Expression // Microbeam analysis 1995. V. 4. P. 239-253.
10. ГОСТ Р 8.736-2011. ГСИ. Измерения прямые многократные. Методы обработки результатов измерений. Основные положения.
Review
For citations:
, , , , , . Izmeritel`naya Tekhnika. 2016;(8):24-26. (In Russ.)
Views:
95
Email this article 