Открытый доступ
Только для подписчиков
Измерение неоднородности толщины наноплёнок электронно-зондовым методом
Аннотация
Предложен электронно-зондовый способ измерений неоднородности толщины наноплёнок, основанный на зависимости отношения интенсивностей характеристического рентгеновского излучения элементов плёнки от её толщины. Калибровочная зависимость построена расчётным путём, взаимодействие электронов с образцом промоделировано по методу Монте-Карло.
Об авторах
С. А. Дарзнек
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Россия
Россия
А. Ю. Кузин
Всероссийский научно-исследовательский институт метрологической службы
Россия
Россия
В. Б. Митюхляев
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Россия
Россия
М. А. Степович
Калужский государственный университет им. К. Э. Циолковского
Россия
Россия
П. А. Тодуа
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Россия
Россия
М. Н. Филиппов
Москва, Россия
Россия
Россия
Список литературы
1. Johnson R. W., Hultqvist A., Bent S. F. A brief review of atomic layer deposition: from fundamentals to applications // Materials Today. 2014. V. 17. №. 5. P. 236-246.
2. Гавриленко В. П., Кузин А. Ю., Митюхляев В. Б., Степович М. А., Тодуа П. А., Филиппов М. Н. Измерение толщины окисной плёнки на поверхности кремния электронно-зондовым методом // Измерительная техника. 2015. № 9. С. 13-16.
3. Kanaya К., Okayama S. Penetration and energy-loss theory of electrons in solid targets // J. Phys. D: Appl. Phys. 1972. V. 5. P. 43-58.
4. Zschornack G. H. Handbook of X-ray Data. London: Springer Science & Business Media, 2007.
5. Procop M., Radtke M., Krumrey M., Hasche K. Electron probe microanalysis (EPMA) measurement of thin-film thickness in the nanometre range // Analytical and bioanalytical chemistry. 2002. V. 374. № 4. P. 631-634.
6. Campos C. S., Vasconcellos M.A.Z., Llovet X., Salvat F. Thickness determination of ultra-thin films on Si substrates by EPMA // Microchimica Acta. 2004. V. 145. № 1-4. P. 13-17.
7. Joy D.C. Monte Carlo Modeling for Electron Microscopy and Microanalysis. Oxford: University Press, 1995.
8. Joy D. C., Luo S. An empirical stopping power relationship for low-energy electrons // Scanning. 1989. V. 11. № 4. P. 176-180.
9. Merlet C. Maximum of the X-Ray Depth Distribution in EPMA at Normal Incidence: an Analytical Expression // Microbeam analysis 1995. V. 4. P. 239-253.
10. ГОСТ Р 8.736-2011. ГСИ. Измерения прямые многократные. Методы обработки результатов измерений. Основные положения.
Рецензия
Для цитирования:
Дарзнек С.А., Кузин А.Ю., Митюхляев В.Б., Степович М.А., Тодуа П.А., Филиппов М.Н. Измерение неоднородности толщины наноплёнок электронно-зондовым методом. Измерительная техника. 2016;(8):24-26.
Просмотров: 12
Послать статью по эл. почте 