Учет матричных эффектов при измерениях методом рентгеноспектрального микроанализа
Аннотация
Об авторах
А. В. ЗаблоцкийРоссия
А. Ю. Кузин
Россия
Н. Н. Михеев
Россия
М. А. Степович
Россия
П. А. Тодуа
Россия
Е. В. Широкова
Россия
М. Н. Филиппов
Россия
Список литературы
1. Михеев Н. Н., Степович М. А., Широкова Е. В. Функция распределения по глубине рентгеновского характеристического излучения при локальном электронно-зондовом анализе // Изв. РАН. Сер. физическая. 2010. Т. 74. № 7. С. 1043–1049.
2. Лаврентьев Ю. Г., Королюк В. Н., Усова Л. В. Второе поколение методов коррекции в рентгеноспектральном микроанализе: аппроксимационные модели функции распределения излучения по глубине // Журнал аналитической химии. 2004. Т. 59. № 7. С. 678–696.
3. Михеев Н. Н., Степович М. А., Широкова Е. В. Учет матричных эффектов при локальном электронно-зондовом анализе с использованием новой модели функции распределения по глубине рентгеновского характеристического излучения // Изв. РАН. Сер. физическая. 2012. Т. 76. № 9. С. 1086–1089.
4. Castaing R., Henoc J. Répartition en profondeur du rayonnement caractéristique // IV Congres Intern. Opt. Rayons X, Microanalyse. Paris, 1966. P. 120–126.
5. Green M. The Efficiency of Production of Characteristic X-Radiation // Thesis University of Cambridge. 1962. P. 246.
6. Phillibert J. A metod for calculation the absorption correction in electron probe microanalysis // Proc. 3rd Int. conf. X-ray Optics and Microanalysis / Ed. H.H. Pattee e. a. N. Y.: Academic.1963. P. 379–392.
7. Основы рентгеноспектрального локального анализа / Пер. с англ., под ред. И. Б. Боровского. М.: Наука, 1973.
8. Михеев Н. Н., Петров В. И., Степович М. А. Количественный анализ материалов полупроводниковой оптоэлектроники методами растровой электронной микроскопии // Изв. АН СССР. Сер. физическая. 1991. Т. 55. № 8. С. 1474–1482.
9. Дарьян Ж., Кастен Р. Экспериментальное определение поправки на обратное рассеяние электронов // В кн. «Основы рентгеноспектрального локального анализа» / Пер. с англ., под ред. И. Б. Боровского. М.: Наука, 1973. С. 101–108.
10. Castaing R. Electron probe Microanalysis // Adv. Electronics, Electron Phys. 1960. V. 13. P. 317–386.
11. Green M. The Target Absorption, Correction in X-Ray Microanalysis // Proc. 3rd Int. conf. X-ray Optics and Microanalysis / Ed. H. H. Pattee e. a. N. Y.: Academic.1963. P. 361–378.
12. Михеев Н. Н., Степович М. А., Широкова Е. В. Распределение средних потерь энергии пучка электронов по глубине образца: применение в задачах количественного рентгеноспектрального микроанализа // Тез. докл. XXIV Рос. конф. по электронной микроскопии. Черноголовка: ИПТМ РАН, 2012. С. 289.
13. Электронно-зондовый микроанализ / Пер. с англ., под ред. И. Б. Боровского. М.: Мир, 1974.
14. Green M., Cosslett V. E. The efficiency of product of characteristic x-radiation in thick targets of pure elements // Proc. Roy. Soc. 1961. V.78. P. 1206.
15. Green M., Cosslett V. E. Measurements of K, L and M shell X-ray production efficiencies // J. Phys. D. 1968. V.1. P. 425–436.
16. Zeibold T. O. Thernary Diffusion in Copper-Silver-Gold Alloy: Ph. D. Thesis. Massachusetts Institute of Technology, 1965.
17. Пул Д. Прогресс в определении поправки на эффект атомного номера // В кн. «Основы рентгеноспектрального локального анализа» / Пер. с англ., под ред. И. Б. Боровского. М.: Наука, 1973. С. 28–68.
Рецензия
Для цитирования:
Заблоцкий А.В., Кузин А.Ю., Михеев Н.Н., Степович М.А., Тодуа П.А., Широкова Е.В., Филиппов М.Н. Учет матричных эффектов при измерениях методом рентгеноспектрального микроанализа. Izmeritelʹnaya Tekhnika. 2013;(7):58-61.