Искажение профиля рельефных элементов на поверхности монокристаллического кремния в результате их контаминации в низковольтном растровом электронном микроскопе
Abstract
The results of study of the contamination effect of in S-4800 SEM at electron energy 1 keV on the profile of relief elements of the MSHPS-2.0K measure are presented. It is shown that the electron irradiation leads to increase of the relief elements upper base subject to the electron irradiation dose at different irradiation modes.
About the Authors
В. Гавриленко
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Russian Federation
Russian Federation
А. Кузин
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Russian Federation
Russian Federation
В. Митюхляев
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Russian Federation
Russian Federation
А. Раков
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Russian Federation
Russian Federation
П. Тодуа
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Russian Federation
Russian Federation
М. Филиппов
Институт общей и неорганической химии им. Н.С.Курнакова, РАН
Russian Federation
Russian Federation
В. Шаронов
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Russian Federation
Russian Federation
References
1. Жданов Г.С. О скорости углеводородного загрязнения объектов в микрозондовых системах// Поверхность. 1983. №1. С.65–72.
2. Postek M.T. An approach to the reduction of hydrocarbon contamination in the scanning electron microscope//Scanning.1996. V.18.N 4.P. 269–274.
3. Tortonese M., Guan Y., Prochazka J. NIST-traceable calibration of CD-SEM magnification using a 100 nm pitch standard// Proc. SPIE. 2003. V.5038. P.711–718.
4. Гавриленко В. П. и др. Влияние контаминации в РЭМ на профиль рельефных элементов нанометрового диапазона//Нанои микросистемная техника. 2011. №2. С.2–6.
5. Novikov Yu. A. е. а.Method for linear measurements in the nanometre range //Meas. Sci. Technol. 2008. V.18.N2.P.367–374.
6. Reimer L. Transmission electron microscopy: Physics of image formation and microanalysis. N.Y.: Springer, 1997. P.492.
7. Silvis-Cividjan N., Hagen C.W., Kruit P. Spatial resolution limits in electron-beam-induced deposition//J. Appl. Phys. 2005. V.98. P.084905-1–084905-12.
Review
For citations:
, , , , , , . Izmeritel`naya Tekhnika. 2013;(3):12-15. (In Russ.)
Views:
84
Email this article 