Искажение профиля рельефных элементов на поверхности монокристаллического кремния в результате их контаминации в низковольтном растровом электронном микроскопе
Аннотация
Представлены результаты исследований влияния контаминации в раствором электронном микроскопе S-4800 при энергии электронов 1 кэВ на профиль рельефных элементов меры МШПС-2.0К. Показано, что после электронного облучения ширина верхнего основания рельефных элементов увеличивается в зависимости от дозы облучения при его разных режимах.
Об авторах
В. П. Гавриленко
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Россия
Россия
А. Ю. Кузин
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Россия
Россия
В. Б. Митюхляев
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Россия
Россия
А. В. Раков
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Россия
Россия
П. А. Тодуа
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Россия
Россия
М. Н. Филиппов
Институт общей и неорганической химии им. Н.С.Курнакова, РАН
Россия
Россия
В. А. Шаронов
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Россия
Россия
Список литературы
1. Жданов Г.С. О скорости углеводородного загрязнения объектов в микрозондовых системах// Поверхность. 1983. №1. С.65–72.
2. Postek M.T. An approach to the reduction of hydrocarbon contamination in the scanning electron microscope//Scanning.1996. V.18.N 4.P. 269–274.
3. Tortonese M., Guan Y., Prochazka J. NIST-traceable calibration of CD-SEM magnification using a 100 nm pitch standard// Proc. SPIE. 2003. V.5038. P.711–718.
4. Гавриленко В. П. и др. Влияние контаминации в РЭМ на профиль рельефных элементов нанометрового диапазона//Нанои микросистемная техника. 2011. №2. С.2–6.
5. Novikov Yu. A. е. а.Method for linear measurements in the nanometre range //Meas. Sci. Technol. 2008. V.18.N2.P.367–374.
6. Reimer L. Transmission electron microscopy: Physics of image formation and microanalysis. N.Y.: Springer, 1997. P.492.
7. Silvis-Cividjan N., Hagen C.W., Kruit P. Spatial resolution limits in electron-beam-induced deposition//J. Appl. Phys. 2005. V.98. P.084905-1–084905-12.
Рецензия
Для цитирования:
Гавриленко В.П., Кузин А.Ю., Митюхляев В.Б., Раков А.В., Тодуа П.А., Филиппов М.Н., Шаронов В.А. Искажение профиля рельефных элементов на поверхности монокристаллического кремния в результате их контаминации в низковольтном растровом электронном микроскопе. Izmeritelʹnaya Tekhnika. 2013;(3):12-15.
Просмотров:
77
Послать статью по эл. почте 