Эллипсометрический способ оценки неоднородности толщины тонкопленочных покрытий
Аннотация
Предложен эллипсометрический способ оценки неоднородности толщины тонкопленочных покрытий в диапазоне 5 – 150 нм.
Об авторах
А. С. Батурин
Московский физико-технический институт
Россия
Россия
В. С. Бормашов
Московский физико-технический институт
Россия
Россия
В. П. Гавриленко
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Россия
Россия
А. В. Заблоцкий
Московский физико-технический институт
Россия
Россия
С. А. Зайцев
Московский физико-технический институт
Россия
Россия
А. Ю. Кузин
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Россия
Россия
П. А. Тодуа
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Россия
Россия
М. Н. Филиппов
Институт общей и неорганической химии им. Н.С.Курнакова РАН
Россия
Россия
Список литературы
1. Красников Г. Я. Конструктивно-технологические особенности субмикронных МОП-транзисторов. М.:Техносфера, 2011.
2. Morton D. E., Johs B., Hale J. Optical monitoring of thin films using spectroscopic ellipsometry. / Proc. 45th Tech. Conf.: Soc. Vac. Coaters. P. 299–305.
3. Woollam J. A. e. a. Overview of variable angle spectroscopic ellipsometry (VASE), part I: basic theory and typical applications //Optical Metrology. 1999. V. CR72. P. 3–75.
4. Азам Р., Башара Н. Эллипсометрия и поляризованный свет. М.: Мир, 1981.
5. Горшков М. М. Эллипсометрия. М.: Сов. радио, 1974.
Рецензия
Для цитирования:
Батурин А.С., Бормашов В.С., Гавриленко В.П., Заблоцкий А.В., Зайцев С.А., Кузин А.Ю., Тодуа П.А., Филиппов М.Н. Эллипсометрический способ оценки неоднородности толщины тонкопленочных покрытий. Izmeritelʹnaya Tekhnika. 2013;(11):17-22.
Просмотров:
56
Послать статью по эл. почте 