Generate QR code
Open Access
Subscription Access
Образование окисной пленки на поверхности кремниевой рельефной структуры в процессе плазменной очистки
Abstract
The effect of oxide film formation on silicon relief structure surface during plasma cleaning has been detected. The kinetics of oxide film growth and the change of sizes of structure elements have been examined.
About the Authors
В. Гавриленко
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Russian Federation
Russian Federation
А. Кузин
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Russian Federation
Russian Federation
В. Митюхляев
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Russian Federation
Russian Federation
М. Степович
Калужский государственный университет им. К. Э. Циолковского»
Russian Federation
Russian Federation
П. Тодуа
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Russian Federation
Russian Federation
М. Филиппов
Институт общей и неорганической химии им. Н.С. Курнакова РАН
Russian Federation
Russian Federation
Д. Карабанов
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Russian Federation
Russian Federation
References
1. Гавриленко В. П., Кузин А. Ю., Митюхляев В. Б., Раков А. В., Тодуа П. А., Филиппов М. Н., Шаронов В. А. Влияние контаминации в растровых электронных микроскопах на профиль рельефных элементов в монокристаллическом кремнии // Метрология. 2012. № 8. С. 15-23.
2. Гавриленко В. П., Кузин А. Ю., Митюхляев В. Б., Раков А. В., Тодуа П. А., Филиппов М. Н., Шаронов В. А. Влияние контаминации в низковольтном растровом электронном микроскопе на профиль рельефных элементов нанометрового диапазона // Нано- и микросистемная техника. 2013. № 1. С. 2-5.
3. Кузин А. Ю., Куприянова Т. А., Тодуа П. А., Филиппов М. Н., Швындина Н. В., Шкловер В. Я. Электронно-зондовое определение углерода в условиях образования пленки поверхностных загрязнений // Метрология. 2012. № 11. С. 24-33.
4. Ларионов Ю. В., Митюхляев В. Б., Филиппов М. Н. Влияние загрязнений образцов в РЭМ на измерение линейных размеров // Поверхность. Рентгеновские, нейтронные и синхротронные исследования. 2008. № 9. С. 53-64.
5. Gavrilenko V. P., Mityukhlyaev V. B., Novikov Yu. A., Ozerin Yu. V., Rakov A. V., Todua P. A. Test object of the linewidth with a trapezoidal profile and three certified sizes for an SEM and AFM // Measur. Sci. and Technol. 2009. V. 20. P. 084022-1-084022-7.
6. Philibert J., Tixier R. Electron probe microanalysis of transmission electron microscope specimens / Eds.B. Siegel, D. R. Beaman // Physical Aspects of Electron Microscopy and Microbeam Analysis. N.Y.: Wiley., 1975. P. 333-354.
7. Блохин М. А., Швейцер И. Г. Рентгеноспектральный справочник. М.: Наука, 1982.
8. Kanaya K., Okayama S. Penetration and energy-loss theory of electrons in solid targets // J. Phys. Devices: Appl. Phys. 1972. V. 5. P. 43-58.
Review
For citations:
, , , , , , . Izmeritel`naya Tekhnika. 2015;(8):71-72. (In Russ.)
Views:
94
Email this article 