Стандартные образцы пространственных характеристик наноструктур на основе аморфных многослойных покрытий
Abstract
The results of development of certified reference materials of nanostructures spatial characteristics based on multilayer periodic Al2O3/TiO2 coatings intended for X-Ray reflectometry measuring techniques accuracy control and measurement procedures certification are presented. The metrological characteristics of developed certified reference materials are considered.
About the Authors
А. Батурин
Московский физико-технический институт
Russian Federation
Russian Federation
В. Бормашов
Московский физико-технический институт
Russian Federation
Russian Federation
М. Ермакова
Московский физико-технический институт
Russian Federation
Russian Federation
Е. Морозова
Московский физико-технический институт
Russian Federation
Russian Federation
С. Морозов
Московский физико-технический институт
Russian Federation
Russian Federation
Е. Коростылев
Московский физико-технический институт
Russian Federation
Russian Federation
С. Зарубин
Московский физико-технический институт
Russian Federation
Russian Federation
А. Маркеев
Московский физико-технический институт
Russian Federation
Russian Federation
П. Тодуа
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Russian Federation
Russian Federation
References
1. Российская Национальная нанотехнологическая сеть [Офиц. сайт]. http://www.rusnanonet.ru (дата обращения: 19.09.2012 г.).
2. Daillant J., Gibaud A. X-ray and Neutron Reflectivity: Principles and Applications. Springer, 2009.
3. Ohlidal I., Franta D. Ellipsometry of Thin Film Systems // Progress in Optics. 2000. V.41. P. 181–282.
4. Parratt L. G. Surface Studies of Solids by Total Reflection of X-Rays // Phys. Rev. 1954. V. 95. P. 359–369.
5. Алехин А. П. Физико-химические основы субмикронной технологии: Учеб. пособие. М.: МФТИ, 2007.
6. Alekhin A. P. e. a. Structural and electrical properties of TixAl1−xOy thin films grown by atomic layer deposition // J. Vac. Sci. Technol. 2011. V. 29. N 1.
7. Puurunen R. L. Surface chemistry of atomic layer deposition: A case study for the trimethylaluminum/water process // J. Appl. Phys. 2005. V. 97. P. 1–55.
8. Ritala M., Leskela M., Rauhala E. Atomic layer epitaxy growth of titanium dioxide thin films from titanium ethoxide // Chem. Mater. 1994. V. 6. P. 556–561.
9. Ylilammi M. Monolayer thickness in atomic layer deposition // Thin Solid Films. 1996. V. 279. P. 124–130.
10. Grigal I. P. e. a. Correlation between bioactivity and structural properties of titanium dioxide coatings grown by atomic layer deposition // Appl. Surf. Sci. 2012. N 258. P. 3415–3419.
11. Terranova U., Bowler D. R. Effect of hydration of the TiO2 anatase (101) substrate on the atomic layer deposition of alumina films // J. Mater. Chem. 2011. V 21. P. 4197–4203.
12. Mitchell D. e. a. Atomic layer deposition (ALD) of TiO2 and Al2O3 thin films on silicon // Proc. SPIE. 2004. V. 5276. P. 296–306.
13. National Institute of Standards and Technology. [Офиц. сайт] http://www.nist.gov (дата обращения: 19.09.2012 г.).
14. ГОСТ Р 8.630–2007. ГСИ. Микроскопы сканирующие зондовые атомно-силовые измерительные. Методика поверки.
15. ГОСТ Р 8.629–2007. ГСИ. Меры рельефные нанометрового диапазона с трапецеидальным профилем элементов. Методика поверки.
16. МИ 2838-2003. ГСИ. Стандартные образцы состава и свойств веществ и материалов. Общие требования к программам и методикам аттестации.
17. ГОСТ Р 8.563–2009. ГСИ. Методики (методы) измерений.
18. МИ 116ПВ/01.00317-2011/2011. Средняя высота ступени. Методика измерений с помощью сканирующего зондового атомно-силового микроскопа.
19. ГОСТ 8.531–2002. ГСИ. Стандартные образцы состава монолитных и дисперсных материалов. Способы оценивания однородности.
20. Р 50.2.031-2003. ГСИ. Стандартные образцы состава и свойств веществ и материалов. Методика оценивания характеристики стабильности.
Review
For citations:
, , , , , , , , . Izmeritel`naya Tekhnika. 2013;(6):20-25. (In Russ.)
Views:
102
Email this article 