Стандартные образцы пространственных характеристик наноструктур на основе аморфных многослойных покрытий
Аннотация
Представлены результаты разработки стандартных образцов СПАМ-20 и СПАМ-100 пространственных характеристик наноструктур на основе периодических многослойных покрытий Al2O3/TiO2, предназначенных для контроля точности измерений и аттестации методик выполнения измерений, основанных на методе рентгеновской рефлектометрии. Рассмотрены метрологические характеристики указанных стандартных образцов.
Об авторах
А. С. Батурин
Московский физико-технический институт
Россия
Россия
В. С. Бормашов
Московский физико-технический институт
Россия
Россия
М. А. Ермакова
Московский физико-технический институт
Россия
Россия
Е. А. Морозова
Московский физико-технический институт
Россия
Россия
С. А. Морозов
Московский физико-технический институт
Россия
Россия
Е. В. Коростылев
Московский физико-технический институт
Россия
Россия
С. С. Зарубин
Московский физико-технический институт
Россия
Россия
А. М. Маркеев
Московский физико-технический институт
Россия
Россия
П. А. Тодуа
Научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума
Россия
Россия
Список литературы
1. Российская Национальная нанотехнологическая сеть [Офиц. сайт]. http://www.rusnanonet.ru (дата обращения: 19.09.2012 г.).
2. Daillant J., Gibaud A. X-ray and Neutron Reflectivity: Principles and Applications. Springer, 2009.
3. Ohlidal I., Franta D. Ellipsometry of Thin Film Systems // Progress in Optics. 2000. V.41. P. 181–282.
4. Parratt L. G. Surface Studies of Solids by Total Reflection of X-Rays // Phys. Rev. 1954. V. 95. P. 359–369.
5. Алехин А. П. Физико-химические основы субмикронной технологии: Учеб. пособие. М.: МФТИ, 2007.
6. Alekhin A. P. e. a. Structural and electrical properties of TixAl1−xOy thin films grown by atomic layer deposition // J. Vac. Sci. Technol. 2011. V. 29. N 1.
7. Puurunen R. L. Surface chemistry of atomic layer deposition: A case study for the trimethylaluminum/water process // J. Appl. Phys. 2005. V. 97. P. 1–55.
8. Ritala M., Leskela M., Rauhala E. Atomic layer epitaxy growth of titanium dioxide thin films from titanium ethoxide // Chem. Mater. 1994. V. 6. P. 556–561.
9. Ylilammi M. Monolayer thickness in atomic layer deposition // Thin Solid Films. 1996. V. 279. P. 124–130.
10. Grigal I. P. e. a. Correlation between bioactivity and structural properties of titanium dioxide coatings grown by atomic layer deposition // Appl. Surf. Sci. 2012. N 258. P. 3415–3419.
11. Terranova U., Bowler D. R. Effect of hydration of the TiO2 anatase (101) substrate on the atomic layer deposition of alumina films // J. Mater. Chem. 2011. V 21. P. 4197–4203.
12. Mitchell D. e. a. Atomic layer deposition (ALD) of TiO2 and Al2O3 thin films on silicon // Proc. SPIE. 2004. V. 5276. P. 296–306.
13. National Institute of Standards and Technology. [Офиц. сайт] http://www.nist.gov (дата обращения: 19.09.2012 г.).
14. ГОСТ Р 8.630–2007. ГСИ. Микроскопы сканирующие зондовые атомно-силовые измерительные. Методика поверки.
15. ГОСТ Р 8.629–2007. ГСИ. Меры рельефные нанометрового диапазона с трапецеидальным профилем элементов. Методика поверки.
16. МИ 2838-2003. ГСИ. Стандартные образцы состава и свойств веществ и материалов. Общие требования к программам и методикам аттестации.
17. ГОСТ Р 8.563–2009. ГСИ. Методики (методы) измерений.
18. МИ 116ПВ/01.00317-2011/2011. Средняя высота ступени. Методика измерений с помощью сканирующего зондового атомно-силового микроскопа.
19. ГОСТ 8.531–2002. ГСИ. Стандартные образцы состава монолитных и дисперсных материалов. Способы оценивания однородности.
20. Р 50.2.031-2003. ГСИ. Стандартные образцы состава и свойств веществ и материалов. Методика оценивания характеристики стабильности.
Рецензия
Для цитирования:
Батурин А.С., Бормашов В.С., Ермакова М.А., Морозова Е.А., Морозов С.А., Коростылев Е.В., Зарубин С.С., Маркеев А.М., Тодуа П.А. Стандартные образцы пространственных характеристик наноструктур на основе аморфных многослойных покрытий. Izmeritelʹnaya Tekhnika. 2013;(6):20-25.
Просмотров:
101
Послать статью по эл. почте 