izmertechИзмерительная техникаIzmeritel`naya Tekhnika0368-10252949-5237ФГУП "ВНИИФТРИ"izmertech-656Research ArticleНАНОМЕТРОЛОГИЯСтандартные образцы пространственных характеристик наноструктур на основе аморфных многослойных покрытийБатуринА. С.baturin@mail.mipt.ruБормашовВ. С.noemail@neicon.ruЕрмаковаМ. А.noemail@neicon.ruМорозоваЕ. А.noemail@neicon.ruМорозовС. А.noemail@neicon.ruКоростылевЕ. В.noemail@neicon.ruЗарубинС. С.noemail@neicon.ruМаркеевА. М.noemail@neicon.ruТодуаП. А.noemail@neicon.ruМосковский физико-технический институтRussian FederationНаучно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуумаRussian Federation201307022023062025Copyright © ФГУП "ВНИИФТРИ", 20232023ФГУП "ВНИИФТРИ"ФГУП "ВНИИФТРИ"https://www.izmt.ru/jour/about/submissions#copyrightNoticehttps://www.izmt.ru/jour/article/view/656

Представлены результаты разработки стандартных образцов СПАМ-20 и СПАМ-100 пространственных характеристик наноструктур на основе периодических многослойных покрытий Al2O3/TiO2, предназначенных для контроля точности измерений и аттестации методик выполнения измерений, основанных на методе рентгеновской рефлектометрии. Рассмотрены метрологические характеристики указанных стандартных образцов.

The results of development of certified reference materials of nanostructures spatial characteristics based on multilayer periodic Al2O3/TiO2 coatings intended for X-Ray reflectometry measuring techniques accuracy control and measurement procedures certification are presented. The metrological characteristics of developed certified reference materials are considered.

стандартные образцы пространственных характеристикрентгеновская рефлектометриямногослойные пленкиметод атомно-слоевого осажденияcertified reference materials of spatial characteristicsX-Ray reflectometrymultilayer filmsALDReferencesРоссийская Национальная нанотехнологическая сеть [Офиц. сайт]. http://www.rusnanonet.ru (дата обращения: 19.09.2012 г.).Российская Национальная нанотехнологическая сеть [Офиц. сайт]. http://www.rusnanonet.ru (дата обращения: 19.09.2012 г.).Daillant J., Gibaud A. X-ray and Neutron Reflectivity: Principles and Applications. Springer, 2009.Daillant J., Gibaud A. X-ray and Neutron Reflectivity: Principles and Applications. Springer, 2009.Ohlidal I., Franta D. Ellipsometry of Thin Film Systems // Progress in Optics. 2000. V.41. P. 181–282.Ohlidal I., Franta D. Ellipsometry of Thin Film Systems // Progress in Optics. 2000. V.41. P. 181–282.Parratt L. G. Surface Studies of Solids by Total Reflection of X-Rays // Phys. Rev. 1954. V. 95. P. 359–369.Parratt L. G. Surface Studies of Solids by Total Reflection of X-Rays // Phys. Rev. 1954. V. 95. P. 359–369.Алехин А. П. Физико-химические основы субмикронной технологии: Учеб. пособие. М.: МФТИ, 2007.Алехин А. П. Физико-химические основы субмикронной технологии: Учеб. пособие. М.: МФТИ, 2007.Alekhin A. P. e. a. Structural and electrical properties of TixAl1−xOy thin films grown by atomic layer deposition // J. Vac. Sci. Technol. 2011. V. 29. N 1.Alekhin A. P. e. a. Structural and electrical properties of TixAl1−xOy thin films grown by atomic layer deposition // J. Vac. Sci. Technol. 2011. V. 29. N 1.Puurunen R. L. Surface chemistry of atomic layer deposition: A case study for the trimethylaluminum/water process // J. Appl. Phys. 2005. V. 97. P. 1–55.Puurunen R. L. Surface chemistry of atomic layer deposition: A case study for the trimethylaluminum/water process // J. Appl. Phys. 2005. V. 97. P. 1–55.Ritala M., Leskela M., Rauhala E. Atomic layer epitaxy growth of titanium dioxide thin films from titanium ethoxide // Chem. Mater. 1994. V. 6. P. 556–561.Ritala M., Leskela M., Rauhala E. Atomic layer epitaxy growth of titanium dioxide thin films from titanium ethoxide // Chem. Mater. 1994. V. 6. P. 556–561.Ylilammi M. Monolayer thickness in atomic layer deposition // Thin Solid Films. 1996. V. 279. P. 124–130.Ylilammi M. Monolayer thickness in atomic layer deposition // Thin Solid Films. 1996. V. 279. P. 124–130.Grigal I. P. e. a. Correlation between bioactivity and structural properties of titanium dioxide coatings grown by atomic layer deposition // Appl. Surf. Sci. 2012. N 258. P. 3415–3419.Grigal I. P. e. a. Correlation between bioactivity and structural properties of titanium dioxide coatings grown by atomic layer deposition // Appl. Surf. Sci. 2012. N 258. P. 3415–3419.Terranova U., Bowler D. R. Effect of hydration of the TiO2 anatase (101) substrate on the atomic layer deposition of alumina films // J. Mater. Chem. 2011. V 21. P. 4197–4203.Terranova U., Bowler D. R. Effect of hydration of the TiO2 anatase (101) substrate on the atomic layer deposition of alumina films // J. Mater. Chem. 2011. V 21. P. 4197–4203.Mitchell D. e. a. Atomic layer deposition (ALD) of TiO2 and Al2O3 thin films on silicon // Proc. SPIE. 2004. V. 5276. P. 296–306.Mitchell D. e. a. Atomic layer deposition (ALD) of TiO2 and Al2O3 thin films on silicon // Proc. SPIE. 2004. V. 5276. P. 296–306.National Institute of Standards and Technology. [Офиц. сайт] http://www.nist.gov (дата обращения: 19.09.2012 г.).National Institute of Standards and Technology. [Офиц. сайт] http://www.nist.gov (дата обращения: 19.09.2012 г.).ГОСТ Р 8.630–2007. ГСИ. Микроскопы сканирующие зондовые атомно-силовые измерительные. Методика поверки.ГОСТ Р 8.630–2007. ГСИ. Микроскопы сканирующие зондовые атомно-силовые измерительные. Методика поверки.ГОСТ Р 8.629–2007. ГСИ. Меры рельефные нанометрового диапазона с трапецеидальным профилем элементов. Методика поверки.ГОСТ Р 8.629–2007. ГСИ. Меры рельефные нанометрового диапазона с трапецеидальным профилем элементов. Методика поверки.МИ 2838-2003. ГСИ. Стандартные образцы состава и свойств веществ и материалов. Общие требования к программам и методикам аттестации.МИ 2838-2003. ГСИ. Стандартные образцы состава и свойств веществ и материалов. Общие требования к программам и методикам аттестации.ГОСТ Р 8.563–2009. ГСИ. Методики (методы) измерений.ГОСТ Р 8.563–2009. ГСИ. Методики (методы) измерений.МИ 116ПВ/01.00317-2011/2011. Средняя высота ступени. Методика измерений с помощью сканирующего зондового атомно-силового микроскопа.МИ 116ПВ/01.00317-2011/2011. Средняя высота ступени. Методика измерений с помощью сканирующего зондового атомно-силового микроскопа.ГОСТ 8.531–2002. ГСИ. Стандартные образцы состава монолитных и дисперсных материалов. Способы оценивания однородности.ГОСТ 8.531–2002. ГСИ. Стандартные образцы состава монолитных и дисперсных материалов. Способы оценивания однородности.Р 50.2.031-2003. ГСИ. Стандартные образцы состава и свойств веществ и материалов. Методика оценивания характеристики стабильности.Р 50.2.031-2003. ГСИ. Стандартные образцы состава и свойств веществ и материалов. Методика оценивания характеристики стабильности.

The authors declare that there are no conflicts of interest present.