izmertechИзмерительная техникаIzmeritel`naya Tekhnika0368-10252949-5237ФГУП "ВНИИФТРИ"izmertech-405Research ArticleСтатьиПрослеживаемость результатов измерений в нанометровом диапазоне к единицам Международной системы единиц физических величинГолубевС. С.noemail@neicon.ruГолубевС. Н.sergolub@mail.ruВсероссийский научно-исследовательский институт метрологической службы, МоскваRussian Federation2010070220230111317Copyright © ФГУП "ВНИИФТРИ", 20232023ФГУП "ВНИИФТРИ"ФГУП "ВНИИФТРИ"https://www.izmt.ru/jour/about/submissions#copyrightNoticehttps://www.izmt.ru/jour/article/view/405

Рассмотрены вопросы обеспечения прослеживаемости результатов измерений в нанометровом диапазоне к эталонам, включенным в базу CMC МБМВ: измерения геометрических размеров, для которых предложен набор калибровочных (поверочных) мер, и цепочка прослеживаемости к эталону - метрологическому атомно-силовому микроскопу; два метода калибровки сканирующих зондовых микроскопов - прямой и с использованием фурье-образа топограммы меры; методика калибровки растровых электронных микроскопов; бюджет неопределенности и формулы для расчета его составляющих при калибровке по рельефной мере нанометрового диапазона TGQ1.

The problem of measurement traceability to standards included in BIPM CMC base assurance in nanometer range is considered with other important topics: local chemical analysis method and its calibration; geometric measurements with the measures for calibration (verification) and the tracebility chain to etalon - metrological AFM; two methods for calibration of SPM - direct calibration and calibration with the Fourier transform of measure topogram; guideline for SEM calibration; uncertainty budget and formulas for its components calculation at calibrating by relief measure of nanometer range TGQ1.

сканирующая микроскопиямерынанометровый диапазонпрослеживаемостькалибровкаповеркаscanning microscopymeasuresnanometer rangetraceabilitycalibrationverificationReferencesЛысенко В. Г., Голубев С. С., Пошивалов А. В. Методы и средства обеспечения единства измерений в нанотехнологиях //Мир измерений. 2005. № 8. С.10-15.Лысенко В. Г., Голубев С. С., Пошивалов А. В. Методы и средства обеспечения единства измерений в нанотехнологиях //Мир измерений. 2005. № 8. С.10-15.Кононогов С. А., Голубев С. С., Лысенко В. Г. Исследование измерительных и калибровочных возможностей средств измерений нанометрового диапазона //Законодательная и прикладная метрология. 2008. № 3. С. 19-27.Кононогов С. А., Голубев С. С., Лысенко В. Г. Исследование измерительных и калибровочных возможностей средств измерений нанометрового диапазона //Законодательная и прикладная метрология. 2008. № 3. С. 19-27.Тодуа П. А. и др. Метрологическое обеспечение измерений длины в микрометровом и нанометровом диапазонах и их внедрение в микроэлектронику и нанотехнологию //Микросистемная техника. 2004. № 1. С. 38-44; № 2. С. 24-39; № 3. С. 25-32.Тодуа П. А. и др. Метрологическое обеспечение измерений длины в микрометровом и нанометровом диапазонах и их внедрение в микроэлектронику и нанотехнологию //Микросистемная техника. 2004. № 1. С. 38-44; № 2. С. 24-39; № 3. С. 25-32.Волк Ч. П., Новиков Ю. А., Раков А. В. Калибровка РЭМ с помощью периодической линейной меры микрометрового и субмикрометрового диапазонов //Измерительная техника. 2000. № 4. С. 48 - 52;Волк Ч. П., Новиков Ю. А., Раков А. В. Калибровка РЭМ с помощью периодической линейной меры микрометрового и субмикрометрового диапазонов //Измерительная техника. 2000. № 4. С. 48 - 52;Volk Ch. P., Novikov Yu. A., Rakov A. V. Sem calibration in the micrometer and submicrometer ranges by means of a periodic linear measure //Measurement Techniques. 2000. V. 43. N 4. P. 346 - 352.Volk Ch. P., Novikov Yu. A., Rakov A. V. Sem calibration in the micrometer and submicrometer ranges by means of a periodic linear measure //Measurement Techniques. 2000. V. 43. N 4. P. 346 - 352.Голубев С. С., Голубев С. Н. Метрологические аспекты оценки безопасности наноматериалов // 1-я Междунар. науч. школа «Нано-2009». М., 2009.Голубев С. С., Голубев С. Н. Метрологические аспекты оценки безопасности наноматериалов // 1-я Междунар. науч. школа «Нано-2009». М., 2009.http://kcdb.bipm.org/appendixC/search.asp?reset=1&met=L; Country=Germanyhttp://kcdb.bipm.org/appendixC/search.asp?reset=1&met=L; Country=GermanyВолк Ч. П. и др. Универсальная линейная мера для растровой электронной и атомно-силовой микроскопии //Электронная промышленность. 2000. № 3. С. 60-64.Волк Ч. П. и др. Универсальная линейная мера для растровой электронной и атомно-силовой микроскопии //Электронная промышленность. 2000. № 3. С. 60-64.

The authors declare that there are no conflicts of interest present.