izmertechИзмерительная техникаIzmeritel`naya Tekhnika0368-10252949-5237ФГУП "ВНИИФТРИ"izmertech-1364Research ArticleНАНОМЕТРОЛОГИЯНаноразмерные пленки Ni-Ti c заданным температурным коэффициентом сопротивления для измерительных преобразователейВасильевВ. А.opto@bk.ruХошевА. В.noemail@neicon.ruПензенский государственный университетRussian FederationНаучно-исследовательский институт физических измеренийRussian Federation201507022023051820Copyright © ФГУП "ВНИИФТРИ", 20232023ФГУП "ВНИИФТРИ"ФГУП "ВНИИФТРИ"https://www.izmt.ru/jour/about/submissions#copyrightNoticehttps://www.izmt.ru/jour/article/view/1364

Представлены результаты исследований процесса получения наноразмерных пленок Ni-Ti методом магнетронного распыления из двух источников для создания измерительных преобразователей. Установлена зависимость между температурным коэффициентом сопротивления пленок и отношением плотностей токов магнетронного разряда. Описан технологический процесс формирования пленок c заданным температурным коэффициентом сопротивления.

The results of study of the process of obtaining nanoscale Ni-Ti films by the method of magnetron sputtering from two sources are presented. The dependence between the temperature coefficient of resistance of nanoscale Ni-Ti films and the ratio of currents densities of magnetron discharge has been established. The process of formation of nanoscale Ni-Ti films with a predetermined temperature coefficient of resistance is described.

измерительные преобразователинаноразмерные пленкимагнетронное распылениетемпературный коэффициент сопротивленияmeasuring convertersnanoscale filmsmagnetron sputteringtemperature coefficient of resistanceReferencesБелозубов Е. М., Васильев В. А., Громков Н. В. Тонкопленочные нано- и микроэлектромеханические системы - основа современных и перспективных датчиков давления для ракетной и авиационной техники // Измерительная техника. 2009. № 7. С. 35-38; Belozubov E. M., Vasil`ev V. A., Gromkov N. V. Thin-film nano- and micro-electromechanical systems - the basis of contemporary and future pressure sensors for rocket and aviation engineering // Measurement Techniques. 2009. V. 52. N. 7. P. 739-744.Белозубов Е. М., Васильев В. А., Громков Н. В. Тонкопленочные нано- и микроэлектромеханические системы - основа современных и перспективных датчиков давления для ракетной и авиационной техники // Измерительная техника. 2009. № 7. С. 35-38; Belozubov E. M., Vasil`ev V. A., Gromkov N. V. Thin-film nano- and micro-electromechanical systems - the basis of contemporary and future pressure sensors for rocket and aviation engineering // Measurement Techniques. 2009. V. 52. N. 7. P. 739-744.Пат. 2326460 РФ. Способ изготовления высокотемпературного тонкопленочного резистора/ И. В. Волохов, Е. В. Песков, Д. В. Попченков // Изобретения. Полезные модели. 2008. № 16.Пат. 2326460 РФ. Способ изготовления высокотемпературного тонкопленочного резистора/ И. В. Волохов, Е. В. Песков, Д. В. Попченков // Изобретения. Полезные модели. 2008. № 16.Пат. 2505885 РФ. Способ изготовления датчика вакуума с наноструктурой заданной чувствительности и датчик вакуума на его основе / И. А. Аверин, В. А. Васильев, А. А. Карманов, Р. М. Печерская, И. А. Пронин // Изобретения. Полезные модели. 2014. № 3Пат. 2505885 РФ. Способ изготовления датчика вакуума с наноструктурой заданной чувствительности и датчик вакуума на его основе / И. А. Аверин, В. А. Васильев, А. А. Карманов, Р. М. Печерская, И. А. Пронин // Изобретения. Полезные модели. 2014. № 3Пат. 1820416 СССР. Способ изготовления высокотемпературного тонкопленочного тензорезистора / Ю. А. Зеленцов, И. В. Волохов, Е. В. Песков // Изобретения. 1993. № 21.Пат. 1820416 СССР. Способ изготовления высокотемпературного тонкопленочного тензорезистора / Ю. А. Зеленцов, И. В. Волохов, Е. В. Песков // Изобретения. 1993. № 21.Васильев В. А., Хошев А. В. Современные нано- и микроэлектронные технологии для производства НиМЭМС датчиков // Инновационные информационные технологии: Материалы Междунар. науч.-практ. конф. / Под ред. С. У. Увайсова. М.: МИЭМ, 2012. С.473 -475.Васильев В. А., Хошев А. В. Современные нано- и микроэлектронные технологии для производства НиМЭМС датчиков // Инновационные информационные технологии: Материалы Междунар. науч.-практ. конф. / Под ред. С. У. Увайсова. М.: МИЭМ, 2012. С.473 -475.Аверин И. А., Карманов А. А., Мошников В. А., Печерская Р. М., Пронин И.А. Особенности синтеза и исследования нанокомпозитных пленок, полученных методом золь-гель-технологии // Известия вузов. Поволжский регион. Физико-математические науки. 2012. № 2. С. 155-162.Аверин И. А., Карманов А. А., Мошников В. А., Печерская Р. М., Пронин И.А. Особенности синтеза и исследования нанокомпозитных пленок, полученных методом золь-гель-технологии // Известия вузов. Поволжский регион. Физико-математические науки. 2012. № 2. С. 155-162.Тимаков С. В. Системы управления технологическими режимами магнетронного нанесения тензорезистивных пленок: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук. Пенза, 2011.Тимаков С. В. Системы управления технологическими режимами магнетронного нанесения тензорезистивных пленок: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук. Пенза, 2011.Волохов И. В., Тимаков С. В. Новая технология получения тонкопленочных гетероструктур чувствительных элементов датчиков давления // Измерительная техника. 2011. № 3.С. 4-6; Volokhov I. V., Timakov S. V. New technology for production of thin-film heterostructures for the sensitive elements of pressure probes // Measurement Techniques. 2011. V. 54. N. 3. P. 221-225Волохов И. В., Тимаков С. В. Новая технология получения тонкопленочных гетероструктур чувствительных элементов датчиков давления // Измерительная техника. 2011. № 3.С. 4-6; Volokhov I. V., Timakov S. V. New technology for production of thin-film heterostructures for the sensitive elements of pressure probes // Measurement Techniques. 2011. V. 54. N. 3. P. 221-225Behrisch R. Sputtering by Particle bombardment: Experiments and Computer Calculations from Threshold to Mev Energies / Ed. W. Eckstein. Berlin: Springer, 2007.Behrisch R. Sputtering by Particle bombardment: Experiments and Computer Calculations from Threshold to Mev Energies / Ed. W. Eckstein. Berlin: Springer, 2007.Никоненко В. А. Математическое моделирование технологических процессов / Под ред. Г.Р.Кузнецова.- М.: Изд-во МИСиС, 2001.Никоненко В. А. Математическое моделирование технологических процессов / Под ред. Г.Р.Кузнецова.- М.: Изд-во МИСиС, 2001.Кошкин Н. И., Ширкевич М. Г. Справочник по элементарной физике. М.: Наука, 1980.Кошкин Н. И., Ширкевич М. Г. Справочник по элементарной физике. М.: Наука, 1980.Ширяев С. А. и др. Получение и свойства композиционных покрытий на основе металл - углерод с нанокристаллической структурой // Журнал технической физики. 2002. Т. 72. Вып. 2. С. 99-100Ширяев С. А. и др. Получение и свойства композиционных покрытий на основе металл - углерод с нанокристаллической структурой // Журнал технической физики. 2002. Т. 72. Вып. 2. С. 99-100

The authors declare that there are no conflicts of interest present.