izmertechИзмерительная техникаIzmeritel`naya Tekhnika0368-10252949-5237ФГУП "ВНИИФТРИ"izmertech-1269Research ArticleФИЗИКО-ХИМИЧЕСКИЕ ИЗМЕРЕНИЯPHYSICOCHEMICAL MEASUREMENTSОбразование окисной пленки на поверхности кремниевой рельефной структуры в процессе плазменной очисткиГавриленкоВ. П.fgupnicpv@mail.ruКузинА. Ю.noemail@neicon.ruМитюхляевВ. Б.noemail@neicon.ruСтеповичМ. А.m.stepovich@mail.ruТодуаП. А.noemail@neicon.ruФилипповМ. Н.fil@igic.ras.ruКарабановД. А.noemail@neicon.ruНаучно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуумаRussian FederationКалужский государственный университет им. К. Э. Циолковского»Russian FederationИнститут общей и неорганической химии им. Н.С. Курнакова РАНRussian Federation201507022023087172Copyright © ФГУП "ВНИИФТРИ", 20232023ФГУП "ВНИИФТРИ"ФГУП "ВНИИФТРИ"https://www.izmt.ru/jour/about/submissions#copyrightNoticehttps://www.izmt.ru/jour/article/view/1269

Обнаружен эффект контаминации на поверхности кремниевой рельефной структуры в процессе плазменной очистки. Исследована кинетика роста окисной пленки и изменение размеров элементов структуры.

The effect of oxide film formation on silicon relief structure surface during plasma cleaning has been detected. The kinetics of oxide film growth and the change of sizes of structure elements have been examined.

плазменная очисткаокисная пленкарельефplasma cleaningoxide filmreliefReferencesГавриленко В. П., Кузин А. Ю., Митюхляев В. Б., Раков А. В., Тодуа П. А., Филиппов М. Н., Шаронов В. А. Влияние контаминации в растровых электронных микроскопах на профиль рельефных элементов в монокристаллическом кремнии // Метрология. 2012. № 8. С. 15-23.Гавриленко В. П., Кузин А. Ю., Митюхляев В. Б., Раков А. В., Тодуа П. А., Филиппов М. Н., Шаронов В. А. Влияние контаминации в растровых электронных микроскопах на профиль рельефных элементов в монокристаллическом кремнии // Метрология. 2012. № 8. С. 15-23.Гавриленко В. П., Кузин А. Ю., Митюхляев В. Б., Раков А. В., Тодуа П. А., Филиппов М. Н., Шаронов В. А. Влияние контаминации в низковольтном растровом электронном микроскопе на профиль рельефных элементов нанометрового диапазона // Нано- и микросистемная техника. 2013. № 1. С. 2-5.Гавриленко В. П., Кузин А. Ю., Митюхляев В. Б., Раков А. В., Тодуа П. А., Филиппов М. Н., Шаронов В. А. Влияние контаминации в низковольтном растровом электронном микроскопе на профиль рельефных элементов нанометрового диапазона // Нано- и микросистемная техника. 2013. № 1. С. 2-5.Кузин А. Ю., Куприянова Т. А., Тодуа П. А., Филиппов М. Н., Швындина Н. В., Шкловер В. Я. Электронно-зондовое определение углерода в условиях образования пленки поверхностных загрязнений // Метрология. 2012. № 11. С. 24-33.Кузин А. Ю., Куприянова Т. А., Тодуа П. А., Филиппов М. Н., Швындина Н. В., Шкловер В. Я. Электронно-зондовое определение углерода в условиях образования пленки поверхностных загрязнений // Метрология. 2012. № 11. С. 24-33.Ларионов Ю. В., Митюхляев В. Б., Филиппов М. Н. Влияние загрязнений образцов в РЭМ на измерение линейных размеров // Поверхность. Рентгеновские, нейтронные и синхротронные исследования. 2008. № 9. С. 53-64.Ларионов Ю. В., Митюхляев В. Б., Филиппов М. Н. Влияние загрязнений образцов в РЭМ на измерение линейных размеров // Поверхность. Рентгеновские, нейтронные и синхротронные исследования. 2008. № 9. С. 53-64.Gavrilenko V. P., Mityukhlyaev V. B., Novikov Yu. A., Ozerin Yu. V., Rakov A. V., Todua P. A. Test object of the linewidth with a trapezoidal profile and three certified sizes for an SEM and AFM // Measur. Sci. and Technol. 2009. V. 20. P. 084022-1-084022-7.Gavrilenko V. P., Mityukhlyaev V. B., Novikov Yu. A., Ozerin Yu. V., Rakov A. V., Todua P. A. Test object of the linewidth with a trapezoidal profile and three certified sizes for an SEM and AFM // Measur. Sci. and Technol. 2009. V. 20. P. 084022-1-084022-7.Philibert J., Tixier R. Electron probe microanalysis of transmission electron microscope specimens / Eds.B. Siegel, D. R. Beaman // Physical Aspects of Electron Microscopy and Microbeam Analysis. N.Y.: Wiley., 1975. P. 333-354.Philibert J., Tixier R. Electron probe microanalysis of transmission electron microscope specimens / Eds.B. Siegel, D. R. Beaman // Physical Aspects of Electron Microscopy and Microbeam Analysis. N.Y.: Wiley., 1975. P. 333-354.Блохин М. А., Швейцер И. Г. Рентгеноспектральный справочник. М.: Наука, 1982.Блохин М. А., Швейцер И. Г. Рентгеноспектральный справочник. М.: Наука, 1982.Kanaya K., Okayama S. Penetration and energy-loss theory of electrons in solid targets // J. Phys. Devices: Appl. Phys. 1972. V. 5. P. 43-58.Kanaya K., Okayama S. Penetration and energy-loss theory of electrons in solid targets // J. Phys. Devices: Appl. Phys. 1972. V. 5. P. 43-58.

The authors declare that there are no conflicts of interest present.